TW
Tao Wang
Author with expertise in Photocatalytic Materials for Solar Energy Conversion
Achievements
Cited Author
Key Stats
Upvotes received:
0
Publications:
7
(14% Open Access)
Cited by:
1,098
h-index:
32
/
i10-index:
107
Reputation
Biology
< 1%
Chemistry
< 1%
Economics
< 1%
Show more
How is this calculated?
Publications
0

Accelerated Hydrogen Evolution Kinetics on NiFe‐Layered Double Hydroxide Electrocatalysts by Tailoring Water Dissociation Active Sites

Guangbo Chen et al.Jan 19, 2018
Owing to its earth abundance, low kinetic overpotential, and superior stability, NiFe-layered double hydroxide (NiFe-LDH) has emerged as a promising electrocatalyst for catalyzing water splitting, especially oxygen evolution reaction (OER), in alkaline solutions. Unfortunately, as a result of extremely sluggish water dissociation kinetics (Volmer step), hydrogen evolution reaction (HER) activity of the NiFe-LDH is rather poor in alkaline environment. Here a novel strategy is demonstrated for substantially accelerating the hydrogen evolution kinetics of the NiFe-LDH by partially substituting Fe atoms with Ru. In a 1 m KOH solution, the as-synthesized Ru-doped NiFe-LDH nanosheets (NiFeRu-LDH) exhibit excellent HER performance with an overpotential of 29 mV at 10 mA cm-2 , which is much lower than those of noble metal Pt/C and reported electrocatalysts. Both experimental and theoretical results reveal that the introduction of Ru atoms into NiFe-LDH can efficiently reduce energy barrier of the Volmer step, eventually accelerating its HER kinetics. Benefitting from its outstanding HER activity and remained excellent OER activity, the NiFeRu-LDH steadily drives an alkaline electrolyzer with a current density of 10 mA cm-2 at a cell voltage of 1.52 V, which is much lower than the values for Pt/C-Ir/C couple and state-of-the-art overall water-splitting electrocatalysts.
0

Reliable Simulation Analysis of Interface and SiON Degradation Effects on Water Vapor Barrier in Laminated Thin‐Film Encapsulation

X.-J. Liu et al.Nov 19, 2024
The water vapor barrier performance of laminated thin‐film encapsulations (TFEs) is crucial for ensuring the stability of flexible organic light‐emitting diode (OLED) devices. In this study, the effects of interfaces and SiON degradation on the water vapor barrier performance of TFEs consisting of SiN x and SiON by finite‐element simulation are investigated. In the results, it is illustrated that the interface can significantly hinder water vapor transmission, and the interfacial phase of SiON/SiN x is found to be more effective in impeding water vapor transmission compared to that of SiN x /SiON. The barrier property of TFEs can be weakened by SiON degradation due to oxidation under high temperature and humidity. Among the analyzed four structures, 450 nm SiN x /50 nm SiON/450 nm SiN x /50 nm SiON exhibits the best barrier performance due to strongest interface effects and minimal SiON degradation. These simulation results correlate well with experimental reliability tests, validating the simulation model's reliability. In this study, valuable insights into optimizing TFEs designs for enhanced barrier performances in flexible OLED devices are provided.