Zirconium based nitrides, carbides and carbonitrides are highly technological compounds which received during the 50 s and 60 s huge interest due to their combination of metal and refractory properties. The interest reiterated recently due to the need of compounds with high electrical conductivity, corrosion and oxidation resistance, and neutron transparency with the rise of mobility electrification and nuclear power. Sintered Zr(C,N) is investigated with CHN elemental analysis combined to atom probe tomography (APT) to evaluate the composition and homogeneity of carbon and nitrogen from the bulk down to the nanometer scale. Results have shown a strong nitrogen loss and an enrichment in carbon which diffused from the graphite die and punch. Nevertheless, the composition is homogenous in the sample. Atom probe tomography suggests that the sintered alloy is sub-stoichiometric with carbon and nitrogen homogeneously distributed within the grain. The stoichiometry calculated corresponds to the estimation by Vegard's law.

The intermetallic transition metal B2‐structured aluminide RuAl is a candidate material for use in various applications, including microelectronics and structural materials under demanding conditions, for example, as oxidation‐ and corrosion‐resistant materials. In contrast to other B2 transition metal aluminides, which usually suffer from brittle material behavior at room temperature, RuAl exhibits comparatively good room‐temperature ductility, in combination with further promising properties. Therefore, RuAl thin films are attracting interest as potential protective and functional surface engineering materials. The synthesis of RuAl thin films by physical vapor deposition, especially magnetron sputtering, is however complex and utilizes codeposition and multilayer from elemental sputtering targets and subsequent annealing procedures. Herein, an alternative route toward single‐phase B2‐structured RuAl thin films by nonreactive DC magnetron sputter deposition at low substrate temperature from a powdermetallurgically manufactured Ru 50 Al 50 compound target is described. The influence of the deposition parameters on the constitution, microstructure, and selected properties of RuAl thin films is studied. It is shown that especially the Ar process gas pressure has a significant impact on their composition and morphology. X‐ray diffraction and transmission electron microscopy with selected‐area electron diffraction indicate that the films are single‐phase RuAl with B2 structure.

Abstract Direct laser interference patterning (DLIP) has in previous work shown to be an effective tool for producing photocatalytic surfaces in a single relatively simple processing step. These surfaces can be interesting candidates for antifouling or self‐cleaning surfaces, as well as substrates for photocatalytic water treatment. In this contribution, various heat treatments are performed both during and after the laser processing to create surfaces with even higher photocatalytic activities and to better understand the formation of various process oxides and their effect on the resulting activity. The photocatalytic activity of the samples is measured by methylene blue degradation and correlated to their chemical composition and morphology. Furthermore, a small prototype is built using low‐cost materials to prove the scalability of the approach.

Color centers are promising single-photon emitters owing to their operation at room temperature and high photostability. In particular, using nanodiamonds as a host material is of interest for sensing and metrology. Furthermore, being a solid-state system allows for incorporation to photonic systems to tune both the emission intensity and photoluminescence spectrum and therefore adapt the individual color center to desired properties. We show successful coupling of a single nanodiamond hosting silicon-vacancy color centers to a plasmonic double bowtie antenna structure. To predict the spectrum of the coupled system, the photoluminescence spectrum of the SiV centers was measured before the coupling process and convoluted with the antenna resonance spectrum. After transferring the nanodiamond to the antenna the combined spectrum was measured again. The measurement agrees well with the calculated prediction of the coupled system and therefore confirms successful coupling.

Color centers are promising single-photon emitters owing to their operation at room temperature and high photostability. In particular, using nanodiamonds as a host material is of interest for sensing and metrology. Furthermore, being a solid-state system allows for incorporation to photonic systems to tune both the emission intensity and photoluminescence spectrum and therefore adapt the individual color center to desired properties. We show successful coupling of a single nanodiamond hosting silicon-vacancy color centers to a plasmonic double bowtie antenna structure. To predict the spectrum of the coupled system, the photoluminescence spectrum of the SiV centers was measured before the coupling process and convoluted with the antenna resonance spectrum. After transferring the nanodiamond to the antenna the combined spectrum was measured again. The measurement agrees well with the calculated prediction of the coupled system and therefore confirms successful coupling.

The manipulation of topography is crucial in surface engineering to customize material properties and surface functionalities for specific applications. Scientists have been inspired by natural surfaces found in plants and animals and have increasingly used engineered surface structures to improve characteristics such as friction, wear, electrical resistance, wettability, and antimicrobial behavior across various fields. Direct laser interference patterning (DLIP) is a technique that can rapidly create well‐defined, periodic surface structures. However, it can still face challenges such as surface roughness and non‐uniformity, which require complementary post‐processing techniques. This article investigates the effectiveness of electropolishing in phosphoric acid as a post‐processing method for DLIP‐treated copper surfaces. Through systematic characterization and analysis, it is demonstrated that electropolishing selectively smoothens DLIP‐treated surfaces by removing undesired by‐products, such as oxides and redeposited material while retaining the underlying structure. The real surface area and, consequently, the S ratio are diminished by up to 13%, while the root mean square roughness R q along the topographic maxima of the line pattern is reduced by ≈90%. These findings contribute to the advancement of our understanding of surface modification techniques and their potential applications in diverse fields.