TH
Tsuyoshi Hasegawa
Author with expertise in Memristive Devices for Neuromorphic Computing
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Effects of Moisture on the Switching Characteristics of Oxide‐Based, Gapless‐Type Atomic Switches

Tohru Tsuruoka et al.Oct 14, 2011
Abstract Resistive switching memories based on the formation and dissolution of a metal filament in a simple metal/oxide/metal structure are attractive because of their potential high scalability, low‐power consumption, and ease of operation. From the standpoint of the operation mechanism, these types of memory devices are referred to as gapless‐type atomic switches or electrochemical metallization cells. It is well known that oxide materials can absorb moisture from the ambient air, which causes shifts in the characteristics of metal‐oxide‐semiconductor devices. However, the role of ambient moisture on the operation of oxide‐based atomic switches has not yet been clarified. In this work, current–voltage measurements were performed as a function of ambient water vapor pressure and temperature to reveal the effect of moisture on the switching behavior of Cu/oxide/Pt atomic switches using different oxide materials. The main findings are: i) the ionization of Cu at the anode interface is likely to be attributed to chemical oxidation via residual water in the oxide layer, ii) Cu ions migrate along grain boundaries in the oxide layer, where a hydrogen‐bond network might be formed by moisture absorption, and iii) the stability of residual water has an impact on the ionization and migration processes and plays a major role in determining the operation voltages. These findings will be important in the microscopic understanding of the switching behavior of oxide‐based atomic switches and electrochemical metallization cells.
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Generic Relevance of Counter Charges for Cation-Based Nanoscale Resistive Switching Memories

Stefan Tappertzhofen et al.Jun 20, 2013
Resistive switching memories (ReRAMs) are the major candidates for replacing the state-of-the-art memory technology in future nanoelectronics. These nonvolatile memory cells are based on nanoionic redox processes and offer prospects for high scalability, ultrafast write and read access, and low power consumption. The interfacial electrochemical reactions of oxidation and reduction of ions necessarily needed for resistive switching result inevitably in nonequilibrium states, which play a fundamental role in the processes involved during device operation. We report on nonequilibrium states in SiO2-based ReRAMs being induced during the resistance transition. It is demonstrated that the formation of metallic cations proceeds in parallel to reduction of moisture, supplied by the ambient. The latter results in the formation of an electromotive force in the range of up to 600 mV. The outcome of the study highlights the hitherto overlooked necessity of a counter charge/reaction to keep the charge electroneutrality in cation-transporting thin films, making it hard to analyze and compare experimental results under different ambient conditions such as water partial pressure. Together with the dependence of the electromotive force on the ambient, these results contribute to the microscopic understanding of the resistive switching phenomena in cation-based ReRAMs.