MA
Masakazu Aono
Author with expertise in Memristive Devices for Neuromorphic Computing
Achievements
Cited Author
Key Stats
Upvotes received:
0
Publications:
15
(20% Open Access)
Cited by:
10,170
h-index:
75
/
i10-index:
330
Reputation
Biology
< 1%
Chemistry
< 1%
Economics
< 1%
Show more
How is this calculated?
Publications
0

Forming nanomaterials as layered functional structures toward materials nanoarchitectonics

Katsuhiko Ariga et al.May 1, 2012
Although progress in nanotechnology is anticipated to stimulate the development of innovative materials, the areas of nanotechnology and materials science are somehow separated with little common ground in current technologies. Nanotechnology has some analytical aspects that are beneficial mainly to the nanoscopic sciences at the atom or molecular levels. Experience of these advanced techniques has only been applied in synthetic approaches to macroscopic materials in rather immature level. Forming nanomaterials into hierarchic and organized structures is a rational way of preparing advanced functional materials. Recently, one of us coined the term materials’ nanoarchitectonics to express this innovation. This review focuses on recent research to develop functional materials by forming nanomaterials into organized structures, especially in well-ordered layered structural motifs. This layered nanoarchitectonics can be achieved by using the versatile technology of layer-by-layer assembly. Reassembly of bulk materials into novel layered structures through layered nanoarchitectonics has created many innovative functional materials in a wide variety of fields as can be seen in ferromagnetic nanosheets, sensors, flame-retardant coatings, transparent conductors, electrodes and transistors, walking devices, drug release surfaces, targeting drug carriers and cell culturing. The properties of a material depend on its architecture — this is perhaps best exemplified by the dramatically different behaviours of graphite, graphene and carbon nanotubes. With the advent of nanotechnology, arranging materials into specific, organized structures at the nanoscale has become increasingly important. This issue is discussed here by Katsuhiko Ariga and co-workers, who emphasize the versatility of the layer-by-layer technique. Sheets are first separated from the bulk and assembled differently, sometimes with other components. They can be layered on substrates through electrostatic interactions but also covalent, coordination or hydrogen bonds, and the layer-by-layer procedure can also be carried out in different ways, such as dipping, spin coating or spraying. All of this enables the formation of structures with a wide variety of morphologies, properties and applications, including in the biomedical field. Forming nanomaterials into hierarchic and organized structures is a rational way of preparing advanced functional materials. The term nanoarchitectonics can express this innovation. This review focuses on recent researches to develop functional materials by forming nanomaterials into organized structures, especially in well-ordered layered structural motifs. This layered nanoarchitectonics can be achieved by using the versatile technology of layer-by-layer assembly. Reassembly of bulk materials into novel layered structures through layered nanoarchitectonics has created many innovative functional materials in a wide variety of fields as can be seen in ferromagnetic nanosheets, sensors, flame-retardant coatings, transparent conductors, electrodes and transistors, walking devices, drug release surfaces, targeting drug carriers and cell culturing.
0

Angle-resolved photoemission, valence-band dispersions E(k→) , and electron and hole lifetimes for GaAs

T.‐C. Chiang et al.Apr 15, 1980
Accurate valence-band dispersions $E(\stackrel{\ensuremath{\rightarrow}}{\mathrm{k}})$ along the major symmetry directions $\ensuremath{\Gamma}\ensuremath{-}K\ensuremath{-}X$, $\ensuremath{\Gamma}\ensuremath{-}\ensuremath{\Delta}\ensuremath{-}X$, and $\ensuremath{\Gamma}\ensuremath{-}\ensuremath{\Lambda}\ensuremath{-}L$ have been determined for GaAs using simple angle-resolved photoemission techniques of general utility with synchrotron radiation for $25\ensuremath{\le}h\ensuremath{\nu}\ensuremath{\le}100$ eV. At these photon energies, emission features can be understood within the direct-transition model, and spectral peaks can be classified roughly into two categories: one being those associated with primary cone emission with a lifetime-broadened free-electron-like final-state dispersion, and the other (usually weaker) being those associated with secondary cone-surface umklapp emission which emphasizes valence-band critical points with high state densities. Valence-band dispersions $E(\stackrel{\ensuremath{\rightarrow}}{\mathrm{k}})$ along the $\ensuremath{\Gamma}\ensuremath{-}K\ensuremath{-}X$ symmetry line perpendicular to the surface are determined using normal-emission spectra (primary cone peaks) from the (110) surface at various photon energies. Valence-band dispersions $E(\stackrel{\ensuremath{\rightarrow}}{\mathrm{k}})$ along $\ensuremath{\Gamma}\ensuremath{-}K\ensuremath{-}X$, $\ensuremath{\Gamma}\ensuremath{-}\ensuremath{\Delta}\ensuremath{-}X$, and $\ensuremath{\Gamma}\ensuremath{-}\ensuremath{\Lambda}\ensuremath{-}L$ symmetry lines parallel to the surface are determined using off-normal emission spectra (primary cone peaks) from the same (110) surface with fixed perpendicular component of the electron momentum $\ensuremath{\hbar}{\stackrel{\ensuremath{\rightarrow}}{\mathrm{k}}}_{\ensuremath{\perp}}$ at a zone center (extended-zone scheme) and varying parallel component of the electron momentum $\ensuremath{\hbar}{\stackrel{\ensuremath{\rightarrow}}{\mathrm{k}}}_{\ensuremath{\parallel}}$, which are obtained by suitably varying $h\ensuremath{\nu}$ and emission angles. Experimental valence-band dispersions and critical points are compared with other theoretical and experimental results. Simple formulas are derived to relate the widths of spectral peaks to electron and hole lifetimes. Initial hole lifetimes at valence critical points and typical final electron lifetimes are obtained. The latter yields final-state momentum broadenings (typically \ensuremath{\lesssim} 10% of the Brillouin-zone size) which are consistent with the direct-transition model.
0

Forming and switching mechanisms of a cation-migration-based oxide resistive memory

Tohru Tsuruoka et al.Sep 24, 2010
We report detailed current–voltage and current–time measurements to reveal the forming and switching behaviors of Cu/Ta2O5/Pt nonvolatile resistive memory devices. The devices can be initially SET (from the OFF state to the ON state) when a low positive bias voltage is applied to the Cu electrode. This first SET operation corresponds to the first formation of a metal filament by inhomogeneous nucleation and subsequent growth of Cu on the Pt electrode, based on the migration of Cu ions in the stable Ta2O5 matrix. After the forming, the device exhibits bipolar switching behavior (SET at positive bias and RESET (from the ON state to the OFF state) at negative bias) with increasing the ON resistance from a few hundred Ω to a few kΩ. From the measurements of the temperature stability of the ON states, we concluded that the RESET process consists of the Joule-heating-assisted oxidation of Cu atoms at the thinnest part of the metal filament followed by diffusion and drift of the Cu ions under their own concentration gradient and the applied electric field, disconnecting the metal filament. With ON resistances of the order of a few kΩ, the SET and RESET operations are repeated by the inhomogeneous nucleation and the Joule-heating-assisted dissolution of a small filament on a remaining filament. This switching model is applicable to the operation of cation-migration-based resistive memories using other oxide materials.
Load More