KB
Karl Berggren
Author with expertise in Self-Assembly of Block Copolymers in Nanotechnology
Achievements
Cited Author
Open Access Advocate
Key Stats
Upvotes received:
0
Publications:
17
(65% Open Access)
Cited by:
4,121
h-index:
67
/
i10-index:
195
Reputation
Biology
< 1%
Chemistry
< 1%
Economics
< 1%
Show more
How is this calculated?
Publications
0

MoS2 Field-Effect Transistor with Sub-10 nm Channel Length

Amirhasan Nourbakhsh et al.Nov 7, 2016
Atomically thin molybdenum disulfide (MoS2) is an ideal semiconductor material for field-effect transistors (FETs) with sub-10 nm channel lengths. The high effective mass and large bandgap of MoS2 minimize direct source–drain tunneling, while its atomically thin body maximizes the gate modulation efficiency in ultrashort-channel transistors. However, no experimental study to date has approached the sub-10 nm scale due to the multiple challenges related to nanofabrication at this length scale and the high contact resistance traditionally observed in MoS2 transistors. Here, using the semiconducting-to-metallic phase transition of MoS2, we demonstrate sub-10 nm channel-length transistor fabrication by directed self-assembly patterning of mono- and trilayer MoS2. This is done in a 7.5 nm half-pitch periodic chain of transistors where semiconducting (2H) MoS2 channel regions are seamlessly connected to metallic-phase (1T′) MoS2 access and contact regions. The resulting 7.5 nm channel-length MoS2 FET has a low off-current of 10 pA/μm, an on/off current ratio of >107, and a subthreshold swing of 120 mV/dec. The experimental results presented in this work, combined with device transport modeling, reveal the remarkable potential of 2D MoS2 for future sub-10 nm technology nodes.
Load More